派珂纳米科技（苏州）有限公司

   Parylene采用了一种独特的化学气相沉积工艺（CVD）。CVD工艺最早应用于半导体工业的外延生长，整个过程是气态反应，又在真空条件下进行，因而可以获得非常均匀的涂层，达到其它方法难以实现的同形性。

   派瑞林沉积过程过程主要有三步：

   1. 真空130℃条件下固态派瑞林材料升华成气态。

   2. 真空680℃条件下，将气态双份子裂解成活性单体。

   3. 真空常温下，气态单体在基体上生长聚合。