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TJ光学掩模板蒸镀掩模板柔性掩膜激光切割 精密加工

2024-05-30 10:47220报价
最小孔径:20um
是否库存:否
是否定制:是
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TJ光学掩模板蒸镀掩模板柔性掩膜激光切割 精密加工

    光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

    待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。

    掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。

掩膜版的分类

透明基板

1、透明玻璃 。石英玻璃(Quartz Glass)苏打玻璃(Soda-lime Glass)低膨胀玻璃(Low Expansion Glass)

2、透明树脂

遮光膜

1)硬质遮光膜:铬膜氧化铁硅化钼硅。

2)乳胶。

材料厚度(公制):

0.03mm,0.05mm,0.08mm,0.06mm,0.1mm,0.12mm,0.15mm,0.18mm,0.2mm

产品特点:

激光加工线条均均,无毛剌,无缺口

产品价格:

以材料材质、厚度、精度要求、量产数量综合核定

加工能力:可大批量加工

样品提供:

付费打样,样品3天内,最快24小时出样,量大可申请免费样品

梁工


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